Hitachi High-Tech Corporation, empresa líder en tecnología, ha anunciado su inversión de 24.000 millones de yenes japoneses (163,1 millones de euros) en la construcción de una nueva planta de producción en la zona de Kasado de la ciudad de Kudamatsu, prefectura de Yamaguchi, Japón. El objetivo de esta inversión es aumentar la capacidad de producción de sistemas de grabado para su negocio de equipos de fabricación de semiconductores.
Se espera que las nuevas instalaciones, cuyo inicio de producción está previsto para el año fiscal 2025, dupliquen la capacidad de producción actual de Hitachi High-Tech mediante la implantación de líneas de producción digitalizadas y automatizadas. Esta ampliación responde a la creciente demanda de equipos de fabricación de semiconductores en el mercado.
Con una superficie aproximada de 80.000 metros cuadrados, la nueva planta de producción añadirá 35.000 metros cuadrados adicionales al espacio de fabricación de Hitachi High-Tech una vez finalizada en abril de 2025. El objetivo de la empresa es aprovechar las tecnologías avanzadas y los procesos de producción eficientes para satisfacer las necesidades de la industria de semiconductores en rápida evolución.
Esta inversión demuestra el compromiso de Hitachi High-Tech de reforzar su posición como proveedor líder de equipos de fabricación de semiconductores. Con el aumento de la capacidad de producción de las nuevas instalaciones, la empresa pretende contribuir al avance de la fabricación de semiconductores y apoyar la creciente demanda de tecnología punta en diversas industrias.
