Intel ha realizado importantes avances en el desarrollo de su tecnología de próxima generación, Intel 4, con la generación satisfactoria de luz de longitud de onda de 13,5 nanómetros en sus instalaciones Fab 34 de Irlanda. El sistema de litografía EUV de las instalaciones, fabricado por ASML, es un elemento clave de la tecnología de proceso Intel 4 y está considerado como una de las piezas de maquinaria más complicadas jamás construidas. Han sido necesarios 18 meses de diseño y construcción para preparar el edificio de la Fab 34 para recibir el sistema, que consta de 100.000 piezas, 3.000 cables, 40.000 pernos y más de un kilómetro y medio de mangueras.

El logro marca un hito clave en el camino hacia la producción de gran volumen de la tecnología Intel 4 y es la primera vez que se utilizará un escáner EUV de gran volumen en Europa. Se espera que la tecnología Intel 4 se utilice en productos como Meteor Lake en 2023, habiendo superado ya su hito crucial de preparación para la fabricación en el segundo semestre de 2022.